Einzelstreifen und Streifenpaare
BAM, FBH und TU entwickeln genauestes Referenzmaterial zur Gerätekalibrierung
Methoden der Oberflächenanalytik wie die Elektronenspektroskopie und die Sekundärionenmassenspektrometrie liefern die Zusammensetzung von Festkörperoberflächen bis in den Bereich weniger Nanometer. Dabei sind die Kontrolle der Bildauflösung und die Kalibrierung der Längenskala von entscheidender Bedeutung für die Qualität der Messergebnisse. Am genauesten geht das mit dem zertifizierten Referenzmaterial BAM-L200, einem Querschliff durch einen Stapel von 142 Halbleiterschichten.
Die Abbildung von Streifenpaaren und dünnen Einzelstreifen mit zertifizierten Breiten und Abständen ermöglicht die Bestimmung der Bildauflösung des verwendeten Gerätes in einem Bereich von 4 bis 600 Nanometer.
BAM-L200 wurde in der Arbeitsgruppe Schicht- und Oberflächenanalytik entwickelt und patentiert. Die Probe besitzt das feinste und komplexeste Streifenmuster, das jemals realisiert wurde. Für ihre Herstellung arbeiten drei Forschungsinstitutionen zusammen: Die BAM, das Ferdinand-Braun-Institut für Höchstfrequenztechnik und die TU Berlin.
Das Referenzmaterial wird weltweit von Geräteherstellern und Anwendern oberflächenanalytischer Verfahren in der Industrie, in metrologischen Staatsinstituten und Forschungseinrichtungen verwendet. Das 50. Exemplar wurde kürzlich an einen deutschen Gerätehersteller verkauft.
Der Einsatz von BAM-L200 wird durch die begleitende Normung von Verfahren zur Bestimmung der Bildauflösung im Rahmen des ISO Technical Committee "Surface chemical analysis" unterstützt.
Referenzmaterial BAM-L200 (Zertifikat, PDF)
Kontakt:
Dr. rer. nat. Mathias Senoner
Arbeitsgruppe Schicht- und Oberflächenanalytik
Telefon: +49 30 8104-3564
E-Mail: Mathias.Senoner(at)bam.de